7.4. Установки для покрытия металлами поверхностей в вакууме

Металлизация находит очень широкое применение для самых разнообразных научных и технических целей.

Одной из важнейших проблем при вакуумной металлизации является получение слоя соответствующей толщины. Существуют разные способы контроля толщины осаждаемого слоя. Один из них заключается в равномерном осаждении металла на кварцевой пластинке, которая электрическим способом приводится в колебательное движение. Частота колебаний изменяется вместе с изменением толщины осаждаемого слоя металла и служит для контроля толщины слоя по мере ее увеличения.

Давление газа во время металлизации должно непрерывно контролироваться. В случае когда требования к чистоте вакуума очень высокие, одновременно с напылением проверяется состав газов при помощи масс-спектрометра. Предметы, подлежащие металлизации, часто помещают в карусельное устройство, позволяющее по очереди подставлять их под струю осаждаемого из пара или напыляемого металла.

Вакуумная камера (колпак, колокол) обычно может использоваться как для осаждения из пара, так и для катодного напыления. С целью обезгаживания ее нагревают до ≈650—700 К. Основание камеры должно иметь устройства, позволяющие подводить необходимое электропитание. Конструкция и характеристики применяемых уплотнений зависят от качества требуемого вакуума.

Для быстрого введения и удаления металлизируемых предметов должна быть предусмотрена возможность отключать диффузионный насос (работающий непрерывно) от колпака, заполнять колпак воздухом, а затем откачивать его форвакуумным насосом (без подсоединения диффузионного).