Контрольные вопросы

1. В чем заключается принцип ионной откачки?

2. Какой из источников, точечный или плоский, обеспечивает большую равномерность толщины пленки, напыляемой на плоскую поверхность?

3. Зачем производят распыление активного материала в испарительных насосах?

5. Какие конструктивные способы позволяют увеличивать быстроту откачки магниторазрядных насосов?

6. В чем смысл саморегулирования распыления активного вещества в ионно-сорбционных насосах?

7. Чем вызвано ухудшение характеристик криоконденсационного насоса по мере увеличения количества откачанного газа?

8. Какие криоагенты вы знаете? Назовите их рабочие температуры.

9. Какие адсорбционные материалы применяются в конструкциях криоадсорбционных насосов?

10. С чем связано наличие оптимальной скорости транспортирования адсорбента в криоадсорбционных насосах непрерывного действия?