9-2.4. Зависимость интенсивности испарения от температуры конденсации

Как уже было отмечено выше, поверхность кристаллизации в процессе охлаждения в вакууме. углубляется внутрь материала по линейному закону. При этом оказалось, что скорость углубления поверхности кристаллизации не зависит от температуры конденсатора [прямые ξ= f(т) дая разных tк расположены параллельно]. Для целлюлозы b = 3,8 мм/мин, для сукна 2,7 мм/мин и для песка 6,7 мм/мин. Время т0 начала кристаллизации на поверхности тела уменьшается с понижением температуры конденсатора (табл. 9-2).

Из рис. 9-2 следует, что температура переохлаждения повышается по мере углубления внутрь тела. Эта закономерность наблюдалась во всех опытах. При этом, если построить график «температура переохлаждения — расстояние от поверхности тела», то получаем прямую

где tκ1(R) — температура переохлаждения поверхности тела, ° С; R— характерный размер тела (половина толщины пластины); А — постоянный коэффициент, град/м; (х — R) — расстояние от поверхности тела, ж.

Опыты показали, что коэффициент А не зависит от температуры конденсатора. Основные характеристики процесса замораживания в вакууме приведены в табл. 9-2.

Анализ экспериментальных данных показывает, что основное влияние на температуру переохлаждения оказывает локальная скорость охлаждения dt(x,t)/dт равная производной температуры в данной точке по времени.